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生产厂家:德国ZEISS
设备型号:ULTRA 55
安放地点:科技楼110
负责人:李潇
联系电话:62332598-6110
 
主要功能
该设备可以观察和检测微米、纳米级样品的表面形貌特征和成分、取向测试分析。其最大特点是具备超高分辨扫描图像观察能力,尤其是采用最新数字化图像处理技术,提供高倍数、高分辨扫描图像,是纳米材料粒径测试和形貌观察最有效仪器,也是研究材料结构与性能关系所不可缺少的重要工具。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。

主要技术参数
分辨率:1.0nm @ 15kV
放大率:12×~ 900,000×(SE)
加速电压:0.1kV~30kV
探针电流:4pA~20nA
样品室:330mm(内径)×270mm(高)
样品台:行程:X=Y=130mm;Z=50mm
旋转:360°连续(马达驱动)
倾斜:-3°~ +70°(马达驱动)
 
配置
1.探测器:
In-lens内置式二次电子探测器
E-T二次电子探测器
EsB电子枪内置式能量选择型背散射电子探测器
AsB角度选择型背散射电子探测器
2.X射线能谱仪(EDS)
型号: INCA X-MAX 50(Oxford Instruments)
能量分辨率:129eV@MnKα
探测元素范围:Be4-U92
3.电子背散射衍射(EBSD)分析系统
型号:HKL Nordlys F+(Oxford Instruments)
空间分辨率:优于50nm
标定速度:600Hz(点/秒)
4.原位拉伸台
型号:Mtest 2000ES(Gatan)
最大载荷:2000N
力测试精度:载荷级别的1%
拉伸速度:0.033 - 0.4mm/min
试件可拉伸距离:≤10mm
 
实验室预约:
版权所有:北京科技大学工程技术研究院
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