生产厂家：德国ZEISS
设备型号：ULTRA 55
安放地点：昌平创新园区南楼102
负责人：段晓鸽
联系电话：010-62332598-6102
主要功能
该设备可以观察和检测微米、纳米级样品的表面形貌特征和成分、取向测试分析。其最大特点是具备超高分辨扫描图像观察能力，尤其是采用最新数字化图像处理技术，提供高倍数、高分辨扫描图像，是纳米材料粒径测试和形貌观察最有效仪器，也是研究材料结构与性能关系所不可缺少的重要工具。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。
主要技术参数
分辨率：1.0nm @ 15kV
放大率：12×～900,000×（SE）
加速电压：0.1kV～30kV
探针电流：4pA～20nA
样品室：330mm（内径）×270mm（高）
样品台：行程：X=Y=130mm；Z=50mm
旋转：360°连续（马达驱动）
倾斜：-3°～ +70°（马达驱动）
配置
1.探测器
In-lens内置式二次电子探测器
E-T二次电子探测器
EsB电子枪内置式能量选择型背散射电子探测器
AsB角度选择型背散射电子探测器
2.X射线能谱仪（EDS）
型号：INCA X-MAX 50（Oxford Instruments）
能量分辨率：129eV@MnKα
探测元素范围：Be4-U92
3.电子背散射衍射（EBSD）分析系统
型号：HKL Nordlys F+（Oxford Instruments）
空间分辨率：优于50nm
标定速度：600Hz（点/秒）
4.原位拉伸台
型号：Mtest 2000ES（Gatan）
最大载荷：2000N
力测试精度：载荷级别的1%
拉伸速度：0.033 - 0.4mm/min
试件可拉伸距离：≤10mm
